超净高纯试剂系列
光刻胶配套试剂系列
江化概况
生产设备
检测设备
品质保证
联系我们
您现在的位置:首 页  - 产品展示
超净高纯试剂系列
品名 英文名 分子式 级别
SL UL VL EL
过氧化氢 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
盐酸 Hydrochloric Acid HCL
硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
光刻胶配套试剂系列
品名 英文名 型号
负胶显影液 Negative Photoresist Developer FX-C型
负胶显影液 Negative Photoresist Developer FX-D型 FX-2D型
负胶漂洗液 Negative Photoresist Rinse FP-01型
负胶显影漂洗液 Negative Photoresist Developer and Rinse MD-B型、MD-C型
 
版权所有 © 2014  江阴江化微电子材料股份有限公司 All Rights Reserved.   MANAGEMENT
地址:江苏省江阴市周庄镇长寿云顾路581号    电话:0510-86239858(总)    传真:0510-86900022    邮 编:214423