超净高纯试剂系列
光刻胶配套试剂系列
江化概况
生产设备
检测设备
品质保证
联系我们
您现在的位置:首 页  - 产品展示
酸碱类
品名 英文名 分子式 级别
SL UL VL(CMOS) EL
过氧化氢 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
盐酸 Hydrochloric Acid HCL
硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
发烟硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
氢氟酸 Hydrofluoric Acid HF
冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
氨水 Ammonium Hydroxide NH3·H2O
氟化铵 Ammonium Fluoride,40% NH4F
氢氧化钾溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
C-400胆碱清洗剂 Choline Hydroxide C5H15NO2
氢氧化钠溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH
蚀刻液
品名 英文名 分子式 级别
SL UL VL(CMOS) EL
氟化铵腐蚀液(BOE) Ammonium Fluoride Etchant NH4F·HF
氟化铵腐蚀液(BOES) Ammonium Fluoride Etchant(with Surfactant) NH4F·HF
铝蚀刻液 Aluminum Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
钼蚀刻液 Mo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
钼铝/钼铝钼蚀刻液 MoAl/MoAlMo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
硅蚀刻液(MAE) Silicon Etchant HNO3·HF·CH3COOH
金蚀刻液 Au Etchant KI
银蚀刻液 Ag Etchant H3PO4·HNO3  

钛蚀刻液

Ti Etchant HF
铬蚀刻液 Cr Etchant HNO3CAN    
酸性剥离液(AP-2X) Nanostrip 2XP H2SO5  
氢氟酸腐蚀液DHF Hydrofluoric Acid(with Surfactant) HF
ITO蚀刻液(王水) ITO Etchant HNO3·HCI    
ITO蚀刻液(草酸) ITO Etchant H2C2O4    
ITO蚀刻液(FeCl3) ITO Etchant FeCl3·HCl
溶剂
品名 英文名 分子式 级别
SL UL VL(CMOS) EL
甲醇 Methanol CH3OH
乙醇 Ethanol C2H5OH
异丙醇 IPA CH3CHOHCH3
丙酮 Acetone (CH3)2CO
醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
甲苯 Toluene C6H5CH3
二甲苯 Xylenes C8H10
三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
环已烷 Cyclohexane C6H12
N-甲基吡咯烷酮 N-methyl-2-pyrrolidinone CH3N(CH2)3CO
丙二醇单甲醚 PGME PGME
丙二醇单甲醚醋酸酯 PGMEA PGMEA
EL级:优于美国SEME C1标准,控制1μm颗粒,控制十多个金属元素,单项金属元素控制在100PPb。
VL级:介于EL与UL之间,控制0.5μm颗粒,控制三十多个金属元素,单项金属元素控制在10~100PPb。
UL级:等同于美国SEME C7标准,控制0.5、0.3μm颗粒,控制三十多个金属元素,单项金属元素控制在10PPb以下。
SL级:等同于美国SEME C8标准,控制0.3μm颗粒,控制三十多个金属元素,单项金属元素控制在1PPb以下。
版权所有 © 2016  江阴江化微电子材料股份有限公司 All Rights Reserved.
地址:江苏省江阴市周庄镇长寿云顾路581号    电话:0510-86239858(总)    传真:0510-86900022   邮 编:214423 苏ICP备15056893号-1