类别

产品

英文名

应用领域

显影、漂洗液

负胶显影液

Negative PR  Developer

IC

负胶漂洗液

Negative PR  Rinse

IC

负胶显影漂洗液

Negative PR  Developer & Rinse

IC

正胶显影液(TMAH)

Developer (TMAH)

IC / FPD / OLED

正胶显影液(TMAH含活性剂)

Developer (TMAH  with surfactant)

IC / FPD / OLED

剥离液

正胶剥离液(水系)

Positive PR  Stripper (Water base)

FPD / OLED

正胶剥离液(有机系)

Positive PR  Stripper (Organic base)

IC/FPD / OLED

剥离清洗剂(铝制程)

Stripper  (IC- Al process)

IC

剥离清洗剂(铜制程)

Stripper  (IC- Cu process)

IC

剥离去胶液(铝制程)

Stripper (Al  process)

IC / FPD

剥离去胶液(化合物制程)

Stripper  (Compound process)

IC / FPD

剥离去胶液(先进封装)

Stripper  (Advanced packaging )

IC

酸性剥离液

Nanostripper

IC

负胶剥离液

Negative PR  Stripper

IC / FPD

清洗剂

稀释剂

Thiner

IC / FPD

边胶清洗剂（EBR)

Edge Bead  Remover

IC / FPD / OLED

清洗剂（铜、铝、PI、ITO）

Cleaner (Cu/ Al/  PI/ ITO process)

IC / FPD / OLED

蚀刻类

氟化铵腐蚀液(BOE）

BOE

IC / FPD / OLED  / PV

低张力氟化铵腐蚀液（BOE）

Low tension BOE

IC  / FPD / OLED / PV

铝蚀刻液

Al Etchant

IC / FPD

钼蚀刻液

Mo Etchant

IC / FPD

钼铝/钼铝钼蚀刻液

MoAl / MoAlMo  Etchant

IC / FPD

硅蚀刻液

Si Etchant

IC / FPD / PV

金蚀刻液

Au Etchant

IC

镍/银蚀刻液

Ni/Ag Etchant

IC / FPD

铜蚀刻液

Cu Etchant

IC / FPD

钛蚀刻液

Ti Etchant

IC / FPD

铬蚀刻液

Cr Etchant

IC

氢氟酸腐蚀液(含活性剂）

DHF(With  surfactant)

IC / FPD

ITO蚀刻液

ITO Etchant

FPD

其他

增粘剂

HMDS

IC / FPD